CCP干法刻蚀机
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● 6/8英寸兼容
● 刻蚀形貌好、工艺性能优越
● 高选择比、高刻蚀速率
● 低拥有成本和消耗成本
400平台刻蚀系统
● 盒式对盒式集簇式真空传输系统
● 正方形真空传输腔,最多支持3个工艺腔
● 高可靠真空机械手
● 晶圆自校准及晶圆扫描
● 满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统
● 适合小规模量产