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  • CCP干法刻蚀机

    CCP干法刻蚀机

    CCP干法刻蚀机

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    ● 6/8英寸兼容

    ● 刻蚀形貌好、工艺性能优越

    ● 高选择比、高刻蚀速率

    ● 低拥有成本和消耗成本

  • 400平台刻蚀系统

    400平台刻蚀系统

    CCP干法刻蚀机

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    ● 盒式对盒式集簇式真空传输系统

    ● 正方形真空传输腔,最多支持3个工艺腔

    ● 高可靠真空机械手

    ● 晶圆自校准及晶圆扫描

    ● 满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统

    ● 适合小规模量产